ULVAC 桌上型燈加熱設備 MILA-5000-P-F
特點
50℃/s高速加熱
可以選擇真空,氣體,氣流,大氣和任何環(huán)境
**的溫度控制
桌面型和緊湊型設計
用途
強電解質(zhì)薄膜的晶體退火
離子注入后的擴散退火,氧化膜形成退火
Si、化合物晶圓燒結(jié)和合金化處理
玻璃基板的熱退火
熱循環(huán),熱沖擊,熱疲勞試驗
升溫脫離試驗,催化效果試驗
規(guī)格
| 型號 |
MILA-5000-P-N (高溫型) |
MILA-5000-P-F (均溫型) |
|---|---|---|
| 溫度范圍 | RT~1200℃ | RT~800℃ |
| 樣品尺寸 | ?20 × t2 (mm) | |
| 大氣 | 空氣、真空、氣體流量 | |
*真空泵系統(tǒng)為可選項。
*加熱溫度根據(jù)被加熱樣品的紅外反射率、吸收率、熱容量和材料而變化。
| 型號 | MILA-5000UHV |
|---|---|
| 溫度范圍 | RT~1200℃ |
| 樣品尺寸 | ?20 × t2 (mm) |
| 大氣 | 空氣、真空、惰性氣體 |
*真空泵系統(tǒng)為可選項。
*加熱溫度根據(jù)被加熱樣品的紅外反射率、吸收率、熱容量和材料而變化。
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